“一代芯片，一代设备”
半导体行业中有这样的一个共识，叫做“一代芯片，一代设备”，也就是说，制造芯片除了技术要求之外，设备的优劣直接决定着产品的性能。
我国半导体产业之所以不够先进，并非是我们技术落后，而是国内没有相关设备，以我国目前约16%的自给率来看，我们至少还有七八十种半导体设备被海外垄断着。
在我国自主造芯的大趋势下，很多人对光刻机都不陌生，作为芯片制造环节核心设备之一，光刻机不仅昂贵，而且制造精密复杂，被誉为是工业皇冠上的明珠，全球90%以上的市场几乎都在荷兰巨头ASML的手里。
然而ASML公司的光刻产线上却含有超过20%的美国技术和零配件，在老美所谓的“出口管制”规则下，我们想进口一台先进的EUV光刻机几乎是不可能的事儿。
光刻机的国产化进程
好消息是，在中科院等科研机构的助力下，光刻机的国产化进程发展迅速。
在今年年初，唐传祥教授带领的清华科研团队一举突破了EUV光源技术，这是EUV光刻机最核心的技术，清华大学取得的科研成果意味着EUV光刻机的国产化已经成功了一半。
仅仅过了两个多月，国内再次传出光刻机的好消息。上海微电子自研的国产28nm光刻机已经完成测试，各项性能指标良好，预计年内就可以下线商用。
我国在光刻领域的进步，一度让荷兰ASML公司倍感压力，为此，其首席官接连数次表态：愿意提供设备和技术的支持，还将加大在中国市场的投资布局，只求合作发展。
ASML态度的转变印证了一个道理，当我们手握核心技术、变为强者之时，“朋友”就多了起来。
国产巨头突破3nm设备
令人振奋的是，好消息不止光刻机，近日，又一项非常关键的国产半导体设备获得了突破。
据知情人士透露，国内最先进的蚀刻企业中微半导体，成功研发出了3nm蚀刻机。所有核心技术，包括原型设计、制造组装以及测试全部都是100%的国产，更重要的是，这项设备已经通过了权威机构的评估，正式步入了量产阶段。
相比光刻机，蚀刻机的“名头”显然没有那么大。光刻机之所以被大众熟知，是由于它的特殊性和舆论的烘托，以至于此前很多人都认为突破了光刻技术就等同于实现了芯片自主。
然而事实是，蚀刻机的作用丝毫不亚于光刻设备，在光刻工序把线路图案印上去之后，蚀刻机按照线路图，把多余的部分给刻蚀掉。如果光刻机是芯片制造的“魂”，那么蚀刻机就是芯片制造的“魄”。
值得强调的是，在刻蚀领域，中微是全球唯一一家能达到3nm精度的企业，该国产巨头的蚀刻机备受台积电和三星的青睐，目前这两位代工巨头均已下单。
美国院士：太快了
我们在刻蚀领域赶超之路可谓是充满了辛酸，中微创始人、蚀刻专家尹志尧教授是一位海归科学家，曾在洛杉矶的加利福尼亚大学获得博士学位，在硅谷Intel公司、LAM研究所、应用材料公司等电浆蚀刻供职16年。
之后为了响应国家发展半导体产业的号召，尹志尧放弃了海外“绿卡”，毅然决定回国。然而，却遭到了老美的“强行”留人，甚至还数次“窃取”尹志尧科研团队的研发成果。
庆幸的是，经过数年的“博弈”，尹志尧教授最终还是回来了，并在2004年创立了中微半导体。用了二十多年的时间，将国产蚀刻设备从空白期带到了领航全球的3nm水平！
在中微半导体突破3nm蚀刻机的消息传开后，美国科学院士Paul·Thomas感叹：这实在是太快了！中国科学家仅用了二十年的时间就走完了我们近百年的路，并且还完成了超越，这是怎么做到的？
总结
Thomas院士问得好，不过，或许很多人都知道怎么回答：我国半导体设备的突飞猛进，除了我们的科学家们满负荷地投入研发之外，你们的技术“围剿”同样“功不可没”。
“继续封锁吧，或许再有个五年，我们就什么都有了！”
